北崎供應EBARA 荏原 CMP設備 EAC

2025/03/13 09:00:34

EAC 類型

由于具有固定磨粒和邊緣控制功能，因此具有高拋光和去除性能的坡口拋光設備

由于固定的磨粒，具有*的拋光和去除性能

設備表面的無接觸概念

坡口形狀輪廓控制功能

寬而靈活的拋光區(qū)域

兼容 SEMI-S2/CE 標志

產(chǎn)品介紹

EAC 模型是一種通過拋光斜面部分（半導體晶片的端面）和晶片前后表面的邊緣部分來去除缺陷和不必要的薄膜的裝置。固定的磨粒允許進行物理拋光，而拋光目標沒有選擇性。此外，配方可控的拋光頭可實現(xiàn)對晶圓端面形狀的高精度控制。

北崎8年，日本會社20年，專注領域如下：
儀器相關(guān)：
山高SANKO（代理）、東機產(chǎn)業(yè)TOKI（代理）、索尼克SONIC（代理）、東日技研DIT（代理）、杉山電機SUGIYAMA（代理）、愛安德AND(廠家合作）、飯島電子IIJIMA、東麗TORAY、共和KYOWA、愛安德AND、豪雅HOYA（代理）

備件設備相關(guān)：
柴田SIBATA(代理）、壺坂TSUBOSAKA（代理）、雅馬拓YAMATO、新光NEWKON（代理）、武藏MUSASHI（代理）、尼得科NIDEC（代理）、MRM(代理）、坂口電熱SAKAGUCHI（代理）、岡崎OKAZAKI、椿本TUSBAKI（廠家合作）、山本鍍金YAMAMOTO、馳卡沙TSUKASA、朝日分光ASAHI、東機理化EYELA、科庫森KOKUSAN

光源相關(guān)：
巖崎EYE（代理）、日森SEN（代理）、晰寫速CCS（代理）、萊寶克斯REVOX（代理）、索萊克SERIC(代理）、普拉瑞POLARION、船越龍FUNATECH、牛尾USHIO、艾泰克ATIEC、山田YAMADA、拓普康TOPCON、歐阿希ORC、賽納SENA、英富麗INFLIDGE

電氣控制：
SIEMENS西門子（廠家合作）、MITSUBISHI三菱，OMRON歐姆龍（廠家合作）、基恩士KEYENCE（廠家合作）

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