E+H雷達物位計 - 應用介質智能雷達物位計適用于對液體、漿料及顆粒料的物位進行非接觸式連續(xù)測量,適用于溫度、壓力變化大;有惰性氣體及揮發(fā)存在的場合。采用微波脈沖的測量方法,并可在工業(yè)頻率波段范圍內正常工作。波束能量較低,可安裝于各種金屬、非金屬容器或管道內,對人體及環(huán)境均無傷害。E+H雷達物位計 - 注意事項測量范圍從波束觸及罐低的那一點開始計算,但在特殊情況下,若罐低為凹型或錐形,當物位低于此點時無法進行測量。 若介質為低介電常數(shù)當其處于低液位時,罐低可見,此時為保證測量精度,建議將零點定在低高度為C 的位置。 理論上測量達到天線的位置是可能的,但是考慮到腐蝕及粘附的影響,測量范圍的終值應距離天線的至少100mm。 對于過溢保護,可定義一段安全距離附加在盲區(qū)上。 小測量范圍與天線有關。 隨濃度不同,泡沫既可以吸收微波,又可以將其反射,但在一定的條件下是可以進行測量的。E+H雷達物位計FMR 130E+H雷達物位計FMR 131E+H雷達物位計FMR 230E+H雷達物位計FMR 231E+H雷達物位計FMR 240E+H雷達物位計FMR 244E+H雷達物位計FMR 245E+H雷達物位計FMR 250E+H雷達物位計FMR 530E+H雷達物位計FMR 531E+H雷達物位計FMR 532E+H雷達物位計FMR 533E+H超聲波物位計E+H超聲波物位計FDU 91...96E+H超聲波物位計FMU 230/231E+H超聲波物位計FMU 40/41/42/43E+H超聲波物位計FMU 90E+H超聲波物位計FTU 230/231E+H導波雷達物位計E+H導波雷達物位計FMP 40E+H導波雷達物位計FMP 41CE+H導波雷達物位計FMP 45
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E+H雷達物位計 - 應用介質
智能雷達物位計適用于對液體、漿料及顆粒料的物位進行非接觸式連續(xù)測量,適用于溫度、壓力變化大;有惰性氣體及揮發(fā)存在的場合。
采用微波脈沖的測量方法,并可在工業(yè)頻率波段范圍內正常工作。波束能量較低,可安裝于各種金屬、非金屬容器或管道內,對人體及環(huán)境均無傷害。
E+H雷達物位計 - 注意事項
測量范圍從波束觸及罐低的那一點開始計算,但在特殊情況下,若罐低為凹型或錐形,當物位低于此點時無法進行測量。
若介質為低介電常數(shù)當其處于低液位時,罐低可見,此時為保證測量精度,建議將零點定在低高度為C 的位置。
理論上測量達到天線的位置是可能的,但是考慮到腐蝕及粘附的影響,測量范圍的終值應距離天線的至少100mm。
對于過溢保護,可定義一段安全距離附加在盲區(qū)上。
小測量范圍與天線有關。
隨濃度不同,泡沫既可以吸收微波,又可以將其反射,但在一定的條件下是可以進行測量的。
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