G5型是制造工藝所用可高效處理各種氣體的燃燒式廢氣處理裝置?？膳刻幚矶喾N氣體，能夠高效進行通常處理起來較為困難的PFCs氣體的處理。通過**的副產(chǎn)物處理措施以及結(jié)合處理對象氣體種類和數(shù)量實施的可調(diào)式（燃料供應量可調(diào)）運行，能夠降低運行成本。該裝置是半導體、液晶面板、太陽能電池和LED等電子元件制造以及化學材料工廠和各種研究室等用途的*佳選擇。產(chǎn)品陣容還包括*大流量為1,200L/min的大流量機型。
燃燒式廢氣處理裝置
批量處理多種氣體
高效處理PFCs氣體
副產(chǎn)物處理措施和粉塵自動排放功能
運行成本低
運行時間長
與氣體種類和數(shù)量相適應的可調(diào)式運行
提高維護性能
可滿足CE標示/SEMI-S2/NRTL要求
| 設備名稱 | 單位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 處理方式 | 燃燒式 + 濕式 | 燃燒式 + 濕式 | 燃燒式 + 濕式 | 燃燒式 + 濕式 | |
| *大允許流入氣體量 | L/min | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 選擇城市燃氣/丙烷氣體 | 選擇城市燃氣/丙烷氣體 | 選擇城市燃氣/丙烷氣體 | 選擇城市燃氣/丙烷氣體 | |
| 尺寸 | W x D x H mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可處**體例 | 工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | 工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等 所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等 所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等 | |
| 標準裝備品 | 粉體去除用燃燒器刮板 | 粉體去除用燃燒器刮板 | 粉體去除用燃燒器刮板 | 粉體去除用燃燒器刮板 | |
| 選項 | 自來水、污水使用量削減單元 | 自來水、污水使用量削減單元 | 自來水、污水使用量削減單元 | 自來水、污水使用量削減單元 | |
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